<기술개요>
○기존 스크린 마스크로는 구현이 불가능한 10μm급 미세 전극 패턴의 구현을 위한 포토리소그래피 및 전주 도금 공정 기반 메탈 스크린 마스크 제조 공정 기술
○미세 인쇄 패턴에 대응되는 스텐실패턴과 스텐실패턴을 가로지르며 패턴 높이보다 작은 높이로 형성되어 형상을 지지하는 브릿지를 포함한 미세패턴용 메탈 스크린 마스크 제작방법
<기술개발 배경>
○최근 전자제품 생산 시장은 생산비용 절감, 소비 효율 향상, 청정 생산 환경을 구축하기 위한 시도들이 이어지고 있음
○대표적으로 인쇄전자 기술이 효율 향상을 위해 미세패턴 기술이 발전하고 있지만, 스크린 메시의 직경보다 작은 크기의 패턴을 인쇄하는 경우, 스텐실에 형성된 인쇄패턴이 스크린 메시에 가려져 위치에 따라 인쇄 불량 부분이 발생하여 불균일이 발생되는 문제점이 있음
<기술내용 및 차별성>
○스텐실의 길이를 길게 하고 패턴 밀도를 높이는 경우에도 스텐실의 파손이 방지됨
○폐곡선형 패턴 스텐실 제작이 가능하고, 인쇄 품질을 향상시키며, 고점도 재료에 박막 코팅 두께를 임의 조정하면서 균일하게 코팅할 수 있는 미세 패턴 인쇄용 스텐실 제조방법이 제공
<비즈니스 아이디어>
○디스플레이(플렉서블 디스플레이)
○반도체(미세공정 반도체)
<시장동향>
○글로벌 디지털 인쇄 시장은 반도체, 디스플레이 시장의 수요 증가와 더불어 꾸준한 성장을 하고 있음
○글로벌 디지털 인쇄 시장은 2021년 86억 6천만 달러 규모였으나, 2030년까지 533억 2천만 달러에 이를 것으로 전망되며, 이는 연평균 22.3%씩 급성장하는 시장이라는 것을 의미함
