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[발표기술_한국표준과학연구원]반도체 양자점 생성을 위한 플라즈마 공정 기술(1)

페이지 정보

지적 재산권 정보
구분
10
출원번호
10-2020-0159851
출원인
한국표준과학연구원
출원일
2020.11.25
발명의 명칭
반도체 양자점의 생성과 크기 제어 방법 및 시스템
과제정보
기준년도
과제고유번호
1711062007
주관연구기관
한국표준과학연구원
세부과제번호
CAP-17-02-NFRI-01
과제명
유체-입자 결합 다차원 다중스케일 플라즈마 장비/공정 시뮬레이터 개발
판매 희망 기술 정보
기술명
[발표기술_한국표준과학연구원]반도체 양자점 생성을 위한 플라즈마 공정 기술(1)
산업기술분류
전기ㆍ전자 -> 반도체소자 및 시스템 -> 설계 Tool
과학기술분류
전기/전자(Electricity and Electronics) -> 반도체소자/시스템(Semiconductor Device/System) -> 달리 분류되지 않는 반도체소자/시스템(Other semiconductor device/system)
기술요약정보
기술키워드
#반도체 양자점 생성 #플라즈마 공정 기술 #크기 제어 방법
기술개요및특징

<특허 요약>

본 발명의 반도체 양자점의 생성 방법에 관한 것으로서, 기판 상부에 비정질 반도체 박막을 증착하는 단계; 상기 비정질 반도체 박막 상부에 플라즈마를 형성하고 이로부터 상기 비정질 반도체 박막에 이온 에너지를 전달하여 결정질 나노입자를 생성하는 단계; 상기 비정질 반도체 박막과 상기 결정질 나노입자에 이온 에너지를 더 전달하 여 상기 결정질 나노입자를 성장시키는 단계; 상기 결정질 나노입자가 성장하여 양자점이 생성되는 단계;를 포함 하는 것을 특징으로 한다. 


<기술 개요>

○플라즈마 공정을 적용하여 비정질 반도체 박막으로부터 균일한 결정성을 갖는 반도체 양자점을 생성하고 그 크기를 제어할 수 있는 반도체 양자점의 생성과 크기 제어 방법 및 시스템

○기존 고에너지 이온빔 대신 플라즈마 공정을 통해 반도체 양자점 생성 및 크기 조절


<기술개발 배경>

○양자점은 전기적 및 광학적 특성을 나타내는 나노입자로써 디스플레이, 반도체 분야에서 다양하게 활용됨

○반도체 물질로서의 나노입자를 양자점을 형성하는데 비정질 기판에서는 적용되기 어려움

○기존 반도체 양자점 생성 기술로는 양자점의 크기를 조절하면서 결정성을 유지하기 어려움


<기술내용 및 차별성>

○플라즈마 공정에 의해 반도체 비정질 박막으로부터 반도체 양자점을 생성하고 그 크기를 쉽게 제어하는 것이 가능함

○플라즈마 공정을 통해 결정화가 균일한 양자점을 생성할 수 있고, 양자점의 생성을 위한 양산성을 높이고 환경에 대한 유해한 영향을 저감할 수 있음

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<비즈니스 아이디어>

○반도체 소재 및 디스플레이 산업에 적용 가능한 기술(플라즈마 공정, 양자점 디스플레이) 

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<시장동향>

○세계 플라즈마 식각 시스템 시장 규모는 2022년 71억 4,910만 달러였으며, 연평균 성장률 12.5%로 2031년 215억 1,128만 달러에 도달할 것으로 예상됨

○플라즈마 식각 시스템 시장은 주로 반도체 부문이 주도하고 있으며, 기술 발전으로 인해 집적 회로에 대한 수요가 증가하고 있음

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기술개발상태
실용화단계
응용분야
반도체 소재 및 디스플레이 산업에 적용 가능한 기술(플라즈마 공정, 양자점 디스플레이)
사업화적용 실적
도입시 고려사항
이전정보
희망이전유형
기술이전조건
협의후 진행
기술이전금액
판매자정보
이름
최경관
소속회사명
(재)경기테크노파크
전화번호
031-500-3037
휴대전화번호
이메일
kkchoi@gtp.or.kr
연구개발자 정보
이름
이효창 김정형 성대진 최대한
소속회사명
전화번호
휴대전화번호
이메일
기술관련자료 정보
대표이미지
기술관련자료
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