본 기술은 인공 광원을 이용한 하폐수 고도처리 시스템에 관한 것으로, 인 용출 공정, 탈질 공정, 질산화공정, 침전공정, 배출공정을 포함함

하폐수 고도처리 시스템에서 인공 빛을 질산화공정 중에 조사하여, 암모니아가 질산화 반응에 의해서 질산화질소(N03-N)로 전환되는 것을 억제하는 부분질산화를 유도함

본 발명의 하폐수 고도처리 시스템은 인공 빛을 하수처리 공정에 조사하는 것에 의해서 부분질산화를 유도하여 질산화에 필요한 산소 공급 에너지 비용을 절감할 수 있음

또한 탈질화 반응에 의한 질소 제거율이 향상되며, C/N Ratio가 낮은 하폐수에 대하여 외부 탄소원을 주입해야 하는 필요성이 경감되고, C/N Ratio가 낮은 조건에서도 탈질 반응에 의한 알칼리가 생성되는 효과가 있음