본 발명은 포토리소그래피에 의해 양자점 박막을 패터닝하는 방법 및 상기 패터닝된 양자점 박막을 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다. 구체적으로, 상기 방법은 (a) 기판 상에 양자점 층을 형성하는 단계; (b) 상기 양자점 층 상에 1회 이상의 원자층 증착법에 의해 금속 산화물을 증착하여 금속 산화물층을 형성하는 단계; (c) 상기 금속 산화물층 상에 포토레지스트를 도포하는 단계로서, 상기 포토레지스트는 술폰산기(sulfonic group)을 포함하지 않는 포토레지스트인 단계; 및 (d) 상기 포토레지스트를 노광 및 현상하여 양자점 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명의 방법에 의하면 화학적 환경에 매우 취약한 In-계열 양자점을 비롯한 양자점의 박막을 양자점 용해, 발광 강도나 수명과 같은 발광 특성의 손실과 같은 문제점 없이 통상의 포토리소그래피에 의해 패터닝할 수 있게 된다.