본 발명은, 초발수용 몰드 제조방법, 초발수용 몰드를 이용한 초발수용 재료 및 그 제조방법에 있어서, 몰드용 금속 표면에 포토레지스트를 결합하는 단계와; 리소그래피를 통해 상기 포토레지스트를 감광하여 감광 마이크로 패턴을 형성하는 단계와; 상기 감광 마이크로 패턴에 양극산화를 통해 제1양극산화층을 형성하는 단계와; 상기 제1양극산화층을 식각 제거하여 상기 감광 마이크로 패턴보다 깊게 함몰되며 나노시드를 포함하는 양극산화 마이크로 패턴을 형성하는 단계와; 나노시드를 포함하는 상기 양극산화 마이크로 패턴에 양극산화를 통해 양극산화 나노 패턴을 포함하는 제2양극산화층을 형성하는 단계와; 나노기공으로 이루어진 상기 양극산화 나노 패턴을 식각하여 상기 나노기공의 직경 및 함몰 깊이를 조절하는 단계를 포함하는 것을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 양극산화 마이크로 패턴을 얻기 위해 식각 및 양극산화하는 단계 중 식각하는 단계를 거치지 않아 공정이 단순해지며 이를 통해 제조비용 및 제조시간을 줄일 수 있으며, 또한 양극산화를 이용하여 포토레지스트와 금속 간의 결합력이 유지되며, 양극산화 시간을 조절을 통해 마이크로 패턴의 깊이를 증가시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.