본 발명은 전사기반의 임프린팅 공정을 이용한 함몰패턴 제작방법에 관한 것이며, 본 발명의 전사기반의 임프린팅 공정을 이용한 함몰패턴 제작방법은 기판 상에 광경화성 수지로 이루어지는 접합층을 적층하는 접합층 적층단계; 외면에 박막층이 증착되는 돌출패턴을 구비하는 스탬프를 준비하는 스탬프 준비단계; 상기 돌출패턴 상의 박막층과 상기 접합층이 접촉된 상태에서 상기 스탬프를 가압하여 돌출패턴 상의 박막층을 상기 접합층으로 선택적으로 전사하는 박막층 전사단계; 상기 접합층이 경화되도록 자외선광을 조사하는 경화단계; 상기 스탬프를 해제하는 해제단계;를 포함하며 상기 박막층 전사단계에서 상기 스탬프에 의해 가압되지 않은 접합층과 상기 스탬프에 의해 함몰되는 영역 내에 전사된 박막층은 동일 평면상에 배치되는 것을 특징으로 한다.

따라서, 본 발명에 의하면, 균일한 형태의 함몰패턴을 제작할 수 있는 전사기반의 임프린팅 공정을 이용한 함몰패턴 제작방법이 제공된다.