탑 코팅 막용 고분자, 탑 코팅 용액 조성물 및 이를 이용한 이머젼 리소그라피 공정 [Polymer for top coating layer, top coating solution compositions and immersion lithography process using the same]
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최고관리자 0 Comments 1 Views 20-11-10 15:46 기계본문
- 기술 정보
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기술분야
반도체
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현재 권리자
삼성전자 주식회사
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Main IPC
G03F 7/027
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존속기간 만료예정일
2025-10-24
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출원번호
(출원일)10-2005-0100412
(2005.10.24) -
등록번호
(등록일)10-1306150
(2013.09.03)
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기술분야
- 기술개발 목적
- - 본 발명은 반도체 제조공정시 더욱 미세하고 정확한 패터닝을 구현하기 위해 창안된 것으로, 기 존의 노광 공정시 사용되는 매질은 포토레지스트막 내에 포함되는 감광성 고분자, 광산발생제 및 용매 등이 물 속에 용해되거나 물과 포토레지스트막 사이에 기포가 발생하여 정확한 포토레지스트 패턴 형성이 어려운 문제가 있음 - 따라서, 포토레지스트막을 물로부터 보호할 수 있는 강산 소수성을 가지는 동시에 현상액으로 제거가 용이하고 빛을 투과시킬 수 있는 탑 코팅 막이 필요함
- 기술의 효과
- - 본 발명의 탑 코팅막용 고분자는 중수소화된 카르복실기를 포함하여 물과 포토레지스트와 섞이 지 않는 동시에 현상액에 녹을 수 있는 적절한 산도를 가져 이를 이머젼 리소그라피 공정에 적용 하여 미세하고 정확한 패터닝을 구현하여 고집적화된 반도체 소자를 제조할 수 있음
- 적용 산업분야
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반도체
*출처 : 첨단 헬로티
- 시장규모 및 전망
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반도체 시장은 2019년 2,269억 달러에서 연평균 7.6% 성장하여 2025년 3,389억 달러의 규모로 전망됨
*출처 : WSTS(2020.12), IC Insights 및 수출입은행