경기기술마켓

변형된 도핑 및 조성 흡수층을 이용한 애벌랜치 포토다이오드

최고관리자　 0 Comments　 1 Views　 20-11-10 15:46　 기계

분야 : 기타 개발상태 9

변형된 도핑 및 조성 흡수층을 이용한 애벌랜치 포토다이오드

보유기관 및 연구자 : 전동환

상담신청 기술문의

TRL09
사업화
- 본격적인 양산 및 사업화 단계
TRL08
시작품 인증/
표준화
- 일부 시제품의 인증 및 인허가 취득 단계
  - 조선 기자재의 경우 선급기관 인증, 의약품의 경우 식약청의 품목 허가 등
TRL07
Pilot 단계 시작품
신뢰성 평가
- 시작품의 신뢰성 평가
- 실제 환경(수요기업)에서 성능 검증이 이루어지는 단계
TRL06
Pilot 단계 시작품
성능 평가
- 경제성(생산성)을 고려한, 파일로트 규모의 시작품 제작 및 평가
- 시작품 성능평가
TRL05
시제품 제작/
성능평가
- 개발한 부품/시스템의 시작품(Prototype) 제작 및 성능 평가
- 경제성(생산성)을 고려하지 않고, 우수한 시작품을 1개~수개 미만으로 개발
TRL04
연구실 규모의
부품/시스템 성능평가
- 연구실 규모의 부품/시스템 성능 평가가 완료된 단계
- 실용화를 위한 핵심요소기술 확보
TRL03
연구실 규모의
성능 검증
- 연구실/실험실 규모의 환경에서 기본 성능이 검증될 수 있는 단계
- 개발하려는 시스템/부품의 기본 설계도면을 확보하는 단계
- 모델링/설계기술 확보
TRL02
실용 목적의 아이디어/
특허 등 개념 정립
- 실용 목적의 아이디어, 특허 등 개념 정립
TRL01
기초 이론/
실험
- 연구과제 탐색 및 기회 발굴 단계

기술개요: 높은도핑농도를가지면서, 상기화합물반도체의조성을기판에대해10% 오차범위내에서의 격자부정합또는정합이유지되도록변형된도핑및조성흡수층을이용한애벌랜치포토다이오드

주요 기술내용: • 종래기술의 문제점

1) 흡수층을두껍게하면응답속도가낮아지게되며, 캐리어가끌려가는드리프트현상발생
2) 응답속도향상을위해서증폭층의폭을작게하면, 에지항복이일어날가능성이커지게되는문제

• 본 기술의 해결방안

- 흡수층에도핑및조성변화층을추가하여주파수특성을유지하면서효율은증가시킴

시장 및 기술동향: - 전세계 포토다이오드 시장규모는 2020년 4억 9,2250만 달러에서 2021년 5억 2,848만 달러,
2020년부터2026년까지CAGR 7.69%로2026년까지7억6,599만달러에이를것으로예상
- 한국원자력연구원 첨단방사선연구소는 광반도체 전문기업과 공동으로 5G
네트워크망을 구성할 때 광신호를 검출하는 핵심부품인 25Gbps급 애벌런치
포토다이오드를 국산화해 올 하반기부터 대량 생산할 계획
- 국내 기업이 많이 도전하는 않아 전량 일본과 미국 등에서 수입하거나 의존해온 추세

특장점