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전기도금공정을이용한자기제어 이황화몰리브덴단일층의합성방법 및이에의해제조된자기제어 이황화몰리브덴단일층을이용한트랜지스터

최고관리자　 0 Comments　 1 Views　 20-11-10 15:46　 기계

분야 : 기타 개발상태 9

전기도금공정을이용한자기제어 이황화몰리브덴단일층의합성방법 및이에의해제조된자기제어 이황화몰리브덴단일층을이용한트랜지스터

보유기관 및 연구자 : 임웅선

특허정보
전기도금 공정을 이용한 자기제어 이황화몰 리브덴 단일층의 합성 방법 및 이에 의해 제 조된 자기제어 이황화몰리브덴 단일층을 이 용한 트렌지스터 (No : 10-2013-0168674)
거래조건 :

상담신청 기술문의

TRL09
사업화
- 본격적인 양산 및 사업화 단계
TRL08
시작품 인증/
표준화
- 일부 시제품의 인증 및 인허가 취득 단계
  - 조선 기자재의 경우 선급기관 인증, 의약품의 경우 식약청의 품목 허가 등
TRL07
Pilot 단계 시작품
신뢰성 평가
- 시작품의 신뢰성 평가
- 실제 환경(수요기업)에서 성능 검증이 이루어지는 단계
TRL06
Pilot 단계 시작품
성능 평가
- 경제성(생산성)을 고려한, 파일로트 규모의 시작품 제작 및 평가
- 시작품 성능평가
TRL05
시제품 제작/
성능평가
- 개발한 부품/시스템의 시작품(Prototype) 제작 및 성능 평가
- 경제성(생산성)을 고려하지 않고, 우수한 시작품을 1개~수개 미만으로 개발
TRL04
연구실 규모의
부품/시스템 성능평가
- 연구실 규모의 부품/시스템 성능 평가가 완료된 단계
- 실용화를 위한 핵심요소기술 확보
TRL03
연구실 규모의
성능 검증
- 연구실/실험실 규모의 환경에서 기본 성능이 검증될 수 있는 단계
- 개발하려는 시스템/부품의 기본 설계도면을 확보하는 단계
- 모델링/설계기술 확보
TRL02
실용 목적의 아이디어/
특허 등 개념 정립
- 실용 목적의 아이디어, 특허 등 개념 정립
TRL01
기초 이론/
실험
- 연구과제 탐색 및 기회 발굴 단계

기술개요: 전기도금공정을이용하여자기제어이황화몰리브덴단일층을형성을통해대면적고품질의자기제어이황화몰리브덴단일층을얻을수있는합성방법및이에의해제조된 자기제어이황화몰리브덴단일층을이용한트랜지스터

주요 기술내용: • 종래기술의 문제점

1.3eV 간접 밴드갭을 가지며, 상온에서 높은 이동도를 갖는 이황화몰리브덴
⇒ ① 리튬이온 또는 초음파를 이용한 박리법: 리튬이온의 가연성 및 희소성,
잉크 내 이황화몰리브덴 조각의 두께 불균일성
⇒ ② 화학기상증착법: 이황화몰리브덴의 단층 증착에 어려움이 있음

• 본 기술의 해결방안

시장 및 기술동향: - 전세계의이황화몰리브덴(MoS2) 시장규모는2022-2026년간1억3,108만달라의증가가
전망되며, 예측기간중5.43%의CAGR로성장할것이예측됨
- 이황화몰리브덴은 두께에따른 전자구조의 변화로 인한 특이한전기적 특성, 투명성, 얇은
두께로 인한유연성 등으로 인해 차세대반도체 재료로 각광 받을것으로 예상됨
- 이황화몰리브덴은 그래핀처럼 아주얇은 층구조를 가져 박막 제작에유리하고, 그래핀에는
없는 반도체특성이 있어 초소형 전자소재로 기대를 얻고있음

특장점

고품질이황화몰리브덴단일층: 전기도금공정에의한자기제어방식을통해 저비용으로이황화몰리브덴 단일층을 용이하게구현할수있으며,균일도가 개선되어대면적, 고품질의단일층을제공