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[국가핵융합연구소] ECR 플라즈마를 이용한 이온빔 장치 및 고품질 박막 증착을 위한 스퍼터장치

페이지 정보

최고관리자  0 Comments  1 Views  20-11-10 15:46  기계

본문

분야 : 기계 개발상태 6 9
벨트형 자석을 포함한 플라즈마 발생원
보유기관 및 연구자 : 김성봉 / 국가핵융합연구소
  • 특허정보

    벨트형 자석을 포함한 플라즈마 발생원 (No : 10-1383530)

  • 거래조건 : 추후 협의

기술완성도

  • TRL09

    사업화

    • 본격적인 양산 및 사업화 단계
  • TRL08

    시작품 인증/
    표준화

    • 일부 시제품의 인증 및 인허가 취득 단계
      - 조선 기자재의 경우 선급기관 인증, 의약품의 경우 식약청의 품목 허가 등
  • TRL07

    Pilot 단계 시작품
    신뢰성 평가

    • 시작품의 신뢰성 평가
    • 실제 환경(수요기업)에서 성능 검증이 이루어지는 단계
  • TRL06

    Pilot 단계 시작품
    성능 평가

    • 경제성(생산성)을 고려한, 파일로트 규모의 시작품 제작 및 평가
    • 시작품 성능평가
  • TRL05

    시제품 제작/
    성능평가

    • 개발한 부품/시스템의 시작품(Prototype) 제작 및 성능 평가
    • 경제성(생산성)을 고려하지 않고, 우수한 시작품을 1개~수개 미만으로 개발
  • TRL04

    연구실 규모의
    부품/시스템 성능평가

    • 연구실 규모의 부품/시스템 성능 평가가 완료된 단계
    • 실용화를 위한 핵심요소기술 확보
  • TRL03

    연구실 규모의
    성능 검증

    • 연구실/실험실 규모의 환경에서 기본 성능이 검증될 수 있는 단계
    • 개발하려는 시스템/부품의 기본 설계도면을 확보하는 단계
    • 모델링/설계기술 확보
  • TRL02

    실용 목적의 아이디어/
    특허 등 개념 정립

    • 실용 목적의 아이디어, 특허 등 개념 정립
  • TRL01

    기초 이론/
    실험

    • 연구과제 탐색 및 기회 발굴 단계
기술개요
○ 선형(Linear) 구조 및 원형(Cylinder) 구조 모두가 가능한 ECR 플라즈마 발생 장치에 관한 기술임.
○ 벨트형 자석 구조와 이에 맞는 마이크로파 Launcher가 핵심 기술임.
○ 플라즈마 장치, 이온빔 장치, 스퍼터 장치 등에 활용 가능함.
기술적 개선점
○ 금속 챔버 벽을 사용함으로써. Quartz나 Ceramic 재질의 챔버 벽을 사용하는 기존 기술의 여러 가지 문제점을 해결함.
○ 도파관 구조의 마이크로파 Launcher를 사용함으로써, 안테나를 통하여 마이크로파를 입사하는 기존 기술의 여러 가지 문제점을 해결함.
○ 기존 ECR 플라즈마의 형태에서 벗어나, 선형 장치 및 원형 장치 모두 가능함.
시장 전망
○ 세계 반도체 시장은 2020년에 465억 달러로 전망됨. (2015 년 대비 43.9% 증가)
○ NAND 시장은 스마트폰 시장 증가 및 SSD 출하량 증가에 힘입어 지속적으로 성장하고 있음.
○ 이와 같이 시장의 성장과 더불어 본 기술의 적용 가능성은 충분할 것으로 판단됨.

기술 사진
○ 자석이 벨트와 같은 형태로 구성되어 있고, 자석 사이의 간격이 없어 플라즈마 가둠 효과가 뛰어나 고밀도 플라즈마 발생이 가능함.
○ 슬릿을 포함한 도파관 구조의 마이크로파 Launcher는 ECR 가열 효과가 뛰어난 곳에 위치함.
○ 챔버 벽은 SUS와 같은 금속으로 구성이 가능하여 Quartz, Ceramic 재질의 벽에서 국부 가열에 의한 Crack에 대한 문제와 챔버 벽의 오염에 의한 마이크로파 효율 감소 등의 문제에서 자유로움.

Spec 비교

응용 분야
○ 디스플레이 : 고품질 박막 증착 장비(투명전극, 산화막, 질화막 등)
○ 반도체 : 식각 장비, 이온빔 장치
상용화 계획
상용화 계획
○ 예상설비 구축비용 : 장비 유형(선형, 원형) 및 크기에 따라 상이
○ 설비 및 이전 예상 소요시간 : 6~12개월
※ 설비규모, 구축환경 등에 따라 변동 가능
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