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표면 제어 3차원 나노구조체 형성방법, 이에 의해 형성된 표면 제어 3차원 나노구조체 그리고 이를 이용한 광전소자

최고관리자　 0 Comments　 1 Views　 20-11-10 15:46　 기계

분야 : 기타 개발상태 9

표면 제어 3차원 나노구조체 형성방법, 이에 의해 형성된 표면 제어 3차원 나노구조체 그리고 이를 이용한 광전소자

보유기관 및 연구자 : 박형호

특허정보
표면 제어 3차원 나노구조체 형성방법, 이에 의해 형성된 표면 제어 3차원 나노구조체 그리고 이를 이용한 광전소자 (No : 10-2020-0154753)
거래조건 :

상담신청 기술문의

TRL09
사업화
- 본격적인 양산 및 사업화 단계
TRL08
시작품 인증/
표준화
- 일부 시제품의 인증 및 인허가 취득 단계
  - 조선 기자재의 경우 선급기관 인증, 의약품의 경우 식약청의 품목 허가 등
TRL07
Pilot 단계 시작품
신뢰성 평가
- 시작품의 신뢰성 평가
- 실제 환경(수요기업)에서 성능 검증이 이루어지는 단계
TRL06
Pilot 단계 시작품
성능 평가
- 경제성(생산성)을 고려한, 파일로트 규모의 시작품 제작 및 평가
- 시작품 성능평가
TRL05
시제품 제작/
성능평가
- 개발한 부품/시스템의 시작품(Prototype) 제작 및 성능 평가
- 경제성(생산성)을 고려하지 않고, 우수한 시작품을 1개~수개 미만으로 개발
TRL04
연구실 규모의
부품/시스템 성능평가
- 연구실 규모의 부품/시스템 성능 평가가 완료된 단계
- 실용화를 위한 핵심요소기술 확보
TRL03
연구실 규모의
성능 검증
- 연구실/실험실 규모의 환경에서 기본 성능이 검증될 수 있는 단계
- 개발하려는 시스템/부품의 기본 설계도면을 확보하는 단계
- 모델링/설계기술 확보
TRL02
실용 목적의 아이디어/
특허 등 개념 정립
- 실용 목적의 아이디어, 특허 등 개념 정립
TRL01
기초 이론/
실험
- 연구과제 탐색 및 기회 발굴 단계

기술개요: 기재에 표면 제어 3차원 나노구조체를 형성시켜 기재의 표면을 제어하여 그 특성을 개선시키기 위한 표면 제어 3차원 나노구조체 형성방법 및 이에 의해 형성된 표면 제어 3차원 나노구조체 그리고 광전소자

주요 기술내용: • 종래기술의 문제점

발광다이오드 최상부층인 n형반도체층 또는 p형 반도체층의 표면에요철
패턴을 형성하기 위해 습식 식각 공정을 주로 수행하였으나, 이 공정은 요철
패턴의 분포 및 형상이 불균일하여 빛의 산란 또는 광반사가 빈번하여 광 추출
효율이 떨어지며, 동일한 광 추출 효율을 갖는 제품을 생산하기에 어려움이 있음

• 본 기술의 해결방안

시장 및 기술동향: - MetcuousResearch에따르면광전자시장은2020년부터2027년까지9.6%의CAGR로
성장하여2020년412억달러에서2027년에는779억달러에이를것으로예상됨
- 첨단 제조및 제조기술은 꾸준히 소비가 증가하고 있으며, 이로인해 산업 부문에서 광전자
부품의 사용이 촉진되고 있음
- 광전자 소자(Optoelectronic Device)는 지구 온난화 및화석연료 고갈로 인해광전자 소자의
활용이 광범위해지고 있으며, 화석연료를 대체할 신재생 에너지로 각광받고 있음

특장점

광추출효율개선: 기재와 굴절률이 다른 특성제어 박막층을 단층 또는 다층으로 형성하고 금속 나노구조체를 형성한 복합 나노구조체에 의해 기재의 굴절률 제어가 용이

광추출효율극대화: 광전소자 최상부층에 표면 제어 3차원 나노구조체를 형성하여 최상부층의 표면적을 확장 및 제어하여 광 추출 효율을 극대화함